北京市政府R&D资助的激励效果分析——基于门槛回归的经验证据

摘要：

政府R&D资助对企业R&D投入具有正反两方面作用。利用门槛回归模型，本研究对北京市政府R&D资助的激励效果进行了实证检验。检验结果显示，北京市政府R&D资助对企业R&D投入的激励效果具有显著的门槛效应，其激励效果随资助规模的提高表现出递减趋势。

关键词：

激励R&D门槛回归非线性

作者简介：

罗植:北京市社会科学院管理研究所副研究员，管理学博士。主要研究方向：公共政策分析、公共治理。主持完成“北京市政府激励企业科技投入优化研究”“首都城市治理的标准化战略及实现路径研究”等多项课题。博士后研究项目“促进基本公共服务均等化的供给机制优化研究”获中国博士后科学基金一等资助，主持2015年国家社会科学基金青年项目“治理视域下地方公共服务供给的系统优化研究”。专著《中国地方政府规模与结构优化》获北京市第十五届哲学社会科学优秀成果奖一等奖。